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1.光譜干涉測(cè)厚儀

這是一種利用光的干涉原理的膜厚計(jì)。當(dāng)光照射到被測(cè)量物體上時(shí)，它會(huì)從薄膜的正面和背面反射。這兩束反射光之間存在相移，并且這種相移取決于薄膜的厚度。當(dāng)波以相位重疊時(shí)，它們會(huì)相互加強(qiáng)，而當(dāng)它們以相反的相位重疊時(shí)，它們會(huì)相互破壞性干擾，因此可以通過(guò)測(cè)量這種干擾的差異來(lái)測(cè)量厚度。

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2.紅外線測(cè)厚儀

這是一種利用被測(cè)量物體對(duì)紅外線的吸收的厚度計(jì)。當(dāng)用紅外光照射被測(cè)物體時(shí)，根據(jù)被測(cè)物體的材質(zhì)和厚度，某些波長(zhǎng)的紅外光會(huì)被吸收。利用此特性，根據(jù)散射透射或反射光所獲得的光譜來(lái)測(cè)量薄膜厚度。如果預(yù)先測(cè)出被測(cè)材料的吸收率與膜厚的關(guān)系，就能夠計(jì)算出目標(biāo)材料的膜厚。

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3.電磁測(cè)厚儀

這是一種利用磁通密度變化的膜厚計(jì)。該測(cè)量方法用于測(cè)量目標(biāo)形成在磁性金屬表面上的情況，利用了當(dāng)磁鐵單獨(dú)靠近金屬時(shí)與當(dāng)磁鐵靠近放置在金屬上的被測(cè)量物體時(shí)磁通密度發(fā)生變化的事實(shí)。但這只能在被測(cè)物體與金屬接觸且本身不是金屬時(shí)使用。

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4.渦流測(cè)厚儀

渦流涂層厚度計(jì)利用線圈產(chǎn)生的磁通量變化來(lái)測(cè)量目標(biāo)物體的厚度。通電線圈的周?chē)鷷?huì)產(chǎn)生磁通，當(dāng)線圈靠近測(cè)量物體時(shí)，磁通量會(huì)根據(jù)測(cè)量物體的厚度而變化。通過(guò)檢測(cè)磁通量的變化來(lái)測(cè)量物體的厚度。

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5.超聲波涂層測(cè)厚儀

超聲波測(cè)厚儀是利用超聲波的反射的厚度計(jì)。當(dāng)超聲波從被測(cè)量物體的表面發(fā)射時(shí)，它穿過(guò)物體的內(nèi)部，并從背面反射。根據(jù)反射發(fā)生的時(shí)間來(lái)測(cè)量厚度。

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例如，為了測(cè)量玻璃等透明薄膜的厚度，可以使用利用寬帶光的光譜干涉膜厚計(jì)或利用紅外光的紅外膜厚計(jì)。另一方面，這些類(lèi)型的厚度計(jì)不能用于不透光的材料，例如金屬。

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測(cè)量薄金屬鍍膜時(shí)，使用利用磁通變化的電磁膜厚計(jì)或利用渦流的渦流膜厚計(jì)。此外，當(dāng)難以接觸被測(cè)物體時(shí)，也會(huì)使用非接觸式涂層測(cè)厚儀，例如超聲波涂層測(cè)厚儀。